重新定義你的PIC設計流程 Luceda 3.10線上發布會圓滿落幕

                                                  光纖在線編輯部  2023-09-21 21:42:12  文章來源:本站采訪報道  版權所有,未經書面許可嚴禁轉載.

                                                  導讀:“重新定義你的PIC設計流程—Luceda 3.10新品發布會”如約映獻,在光纖在線視頻號直播間完美落幕!

                                                  9/21/2023,光纖在線訊, “重新定義你的PIC設計流程—Luceda 3.10新品發布會”如約映獻,在光纖在線視頻號直播間完美落幕!

                                                  硅基光電子技術作為當下光通信企業不可逾越一種新技術儲備,隨著當下400G/800G/1.6T硅光芯片面向商業化的產品推出,本場發布會倍受業界關注,為時1小時的直播,吸引了1600+人員參與,8萬+點贊數,評論交流更是再創新高,860+條評論互動參與。

                                                  此次發布會,是Luceda 3.10新品首次面向市場全面露出,從功能變化,設計理念,版圖引擎升級等多方面全方位揭開了Luceda 3.10的神秘面紗!此次發布也會是光通信行業內首次采用視頻直播的方式進行,在此,感謝Luceda對光纖在線的信任,愿意與光纖在線一起嘗試一種新型的市場活動。


                                                  首先在直播間,光纖在線直播主持人詢問Luceda中國區的總經理曹如平和中國市場的淵源以及取得的成果。曹博士表示:Luceda一直能感受到中國在硅基光電子領域的發展呈現出蓬勃的生機,也因此非常重視中國市場,積極參與到中國市場發展的每一個節點中。早在2014年,Luceda IPKISS剛開始商業化的時候,就已經擁有了中國客戶,從最早聯合高校的交流合作,到后來的上海工研院、cumec、中國科學院微電子所等流片廠都第一時間加入了Luceda 全球PDK的版圖中,以及之后硅基光電子芯片封測廠,都與Luceda有著深厚的淵源。

                                                  2021年,Luceda設立了中國分公司,更好地為中國客戶提供高質量本土化的平臺,更加深了與設計、開發人員的溝通。Luceda 3.10新版本最大的亮點--原理圖圖形化交互工具IPKISS Canvas,正是源于中國本土客戶的反饋。

                                                  線上很多觀眾是Luceda的忠實用戶,迫不急待地期望看到Luceda 3.10的新功能新亮點。我們邀請曹博士為大家揭開3.10的兩大革新:原理圖可設化工具和版圖引擎的全面升級。

                                                   IPKISS Canvas
                                                  Luceda 3.10最大的亮點就是新增了“原理圖圖形化交互工具IPKISS Canvas“,讓用戶更輕松,更高效,更安心地完成設計體驗,加速PIC設計流程。

                                                  首先,IPKISS Canvas采用Schematics editor 促進團隊溝通,清晰地展示設計思路,輕松地討論技術細節,大大提升了團隊的協作效率。

                                                  第二是廣泛聯合了全球的流片廠資源,軟件平臺擁有豐富的PDK器件庫,只需要拖動所需組件即可完成原理圖設計,同時可以將設計圖一鍵轉換為代碼,切換回代碼界面確認最終版圖及仿真結果,解決了SDL圖理驅動版圖上升的難度,

                                                  第三則實現了LVS版圖與原理圖的對比,完成設計驗證。包括檢查線路的連通性,并標注版圖的關鍵信息,包括波導長度、損耗等非常直觀展示,并支持版圖輸出原理圖驗證現有設計。




                                                   版圖引擎全面升級
                                                  Luceda 3.10同時對于版圖引擎進行了全面升級,速度提升接近3倍,更有豐富的自動化布線功能。新的電線布線函數,靈活調整布線角度,使用更加靈活;新的參數化形狀算法,增加設計自由度;助力光芯片企業高效完成復雜芯片開發任務。



                                                  在曹博士介紹完新功能之后,直播的聊天區被 “IPKISS Canvas”罷屏,足見業界同仁對于Luceda 3.10的新版本極為期待。為了讓大家更深切地感受到新版本的便利,我們還邀請了NEOIC和Sicoya的工程師分享了他們的使用感受,他們已經成為Luceda 3.10的第一批使用者,來看看這些用戶都是怎么評價Luceda 3.10的?

                                                  The transition between different steps of the design flow is smooth. The process of importing the PDK into IPKISS Canvas proves to be convenient, further enhanced by the ability to automatically launch Canvas from IPKISS Python code. These newly integrated features have facilitated collaboration with colleagues who are less proficient in coding. By leveraging Canvas, colleagues can generate schematics effortlessly, allowing us to subsequently fine-tune layouts using code.
                                                  設計流程中不同步驟之間的過渡非常流暢。將PDK導入IPKISS Canvas的過程非常方便,而且通過能夠自動從IPKISS Python代碼中啟動IPKISS Canvas,也可以從原理圖直接生成版圖然后版圖工程師可以使用代碼對布局進一步微調。這些新功能的引入使得團隊之間的協作更加容易和輕松。

                                                                                                          --Siyao Chang,PDK Manager at NOEIC

                                                  IPKISS Canvas helped me simplify the functional verification of component connections. Its back-annotation feature enables flexible extraction of crucial layout parameters, so that I can quickly assess the layout accuracy and ensure alignment with design intentions. This significantly reduces design errors and enhances design iteration efficiency.
                                                  IPKISS Canvas幫助我快速檢查器件之間的連接性問題,其反注釋功能可以靈活提取關鍵布局參數的,可以迅速幫助我評估版圖布局的準確性,并確保與設計想法的一致。這大大降低了設計錯誤,并提高了設計迭代的效率。

                                                                                                             --Liam Han,Senior Designer at Sicoya

                                                  I believe Canvas has the potential to change the landscape in PIC mask layout and design. The concept of creating a schematic on Canvas which can be translated directly into a corresponding mask layout design is brilliant. It has already saved me a significant amount of time and effort and I'm grateful to Luceda for developing such an awesome tool!
                                                  我相信Canvas有潛力改變光集成電路(PIC)掩模布局和設計領域的格局。在Canvas上創建原理圖,可以直接轉化為相應的掩模布局設計的概念非常出色。它已經為我節省了大量的時間和精力,我對Luceda開發這樣出色的工具表示感激!

                                                                                         --Bassem Tossoun,Senior Research Scientist at HPE

                                                  Prior to starting a layout, customers typically provide Spark Photonics with PowerPoint or PDF schematics, which are inefficient for capturing PIC schematics or interfacing with foundry PDKs, and often need to be reworked due to erroneous capture. By using IPKISS Canvas, a dedicated PIC schematic capture and verification tool, our customers can ensure that their schematics are correct and true to their targeted PDK, thereby streamlining the design process and facilitating collaborative functionality checks as the layout advances.
                                                  在開始版圖布局之前,客戶通常會向Spark Photonics提供PowerPoint或PDF原理圖,但這種方式不太適用于捕捉光電子芯片(PIC)的原理圖以及與工廠設計套件(PDK)進行直接匹配,通常需要重新處理,這種處理方式容易導致人為的失誤。使用IPKISS Canvas這款專用的PIC原理圖捕捉和驗證工具,我們的客戶不但可以確保他們的原理圖的正確性,而且可以確保設計能夠匹配目標PDK。版圖與原理圖強耦合的協同設計框架,可以使設計流程更加絲滑。

                                                                                              --Kevin McComber, CEO at Spark Photonics

                                                  IPKISS Canvas has given a great push to the PIC design process in the EU SiPho-G project by providing an integrated platform for seamless collaboration between teams. We were able to share schematic designs effortlessly with the Luceda team, enabling them to translate them into manufacturable layouts using IPKISS code. The accurate design representation, verification capabilities and smooth transition to layout implementation make IPKISS Canvas an invaluable tool for efficient and effective photonic integrated circuit design.
                                                  在EU SiPho-G項目中,IPKISS Canvas為光集成電路(PIC)設計過程提供了強大的支持,通過提供一個集成平臺,實現了團隊之間的無縫協作。我們能夠輕松地與Luceda團隊分享原理圖設計,他們能夠使用IPKISS代碼將其轉化為可制造的版圖設計。準確的設計與驗證能力以及版圖和原理圖間的流暢轉換,使IPKISS Canvas成為我們高效的,不可或缺的光電子芯片設計開發工具。

                                                                                             --Apostolos Tsakyridis,Researcher at AUTH

                                                  通過本次活動,業界同仁不僅進一步對硅光芯片設計平臺有了更深的了解,對于PIC流程設計、以及業界在硅光芯片設計的進展方面有了更清晰的了解。我們也相信,Luceda 3.10這樣一款新增為中國工程師特色設計的芯片軟件設計平臺,必將加速硅基光電子技術的商業化進程!

                                                  隨后,直播活動在與Luceda同仁交流,線上提問,以及抽獎的環節交互進行,最后有6位幸運觀眾獲得了由Luceda送出的京東購物卡+Luceda周邊禮品盲盒。未來歡迎更多的業界同仁與我們一起嘗試創新的市場活動,光纖在線也期待通過直播可以為業界同仁帶來更多的行業信息,期待您在直播間有所收獲,期待CFOL直播間給您帶來好運。

                                                  如果您期望獲取并盡快上手Luceda 3.10版軟件,那么這場活動一定不能錯過。

                                                  9月26日14:30-16:30,將會有一場Luceda的線上培訓課程,歡迎掃描如下二維碼,與Luceda的助理“小曦”聯系報名,開啟您的高效PIC設計。
                                                   


                                                  關鍵字: luceda IPKISS 硅光
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